箱型光学ガラス精密焼却炉 工業用熱処理 0.1-3m3

精密アニールの再定義：ボックス型光学ガラス熱処理炉

当社の先進的な製品をご紹介できることを嬉しく思いますボックス型光学ガラス精密焼鈍炉、光学ガラス製品の厳しい熱処理要件に合わせて特別に設計された、非標準のカスタマイズされたソリューションです。研究所、研究機関、および専門のガラス製造業者向けに設計されたこの炉は、優れた温度均一性とインテリジェントなプロセス制御を提供し、一貫した高品質のアニーリング結果を実現します。

設備概要

ボックス型焼鈍炉は、光学ガラス部品の精密熱処理と歪取り焼鈍を目的として設計されています。チャンバー容量は次のとおりです。0.1m3～3m3、小規模バッチの研究開発作業と中量生産の両方に対応します。炉のアーキテクチャには、多面加熱、強制熱風循環、高度な PID インテリジェント制御システムが組み込まれており、すべてのサイクルが厳密な熱仕様を確実に満たすようにします。

主要な技術仕様

エンジニアリングのハイライト

マルチゾーン温度精度:この炉は、強制熱風循環と組み合わせた多面加熱アーキテクチャを採用し、優れた性能を実現します。温度均一性 ≤ ±3℃、厳格な9項目のテストを通じて検証されています。このレベルの均一性は光学ガラスのアニールにとって非常に重要であり、わずかな温度勾配でも残留応力が生じ、光学的な透明性が損なわれる可能性があります。

広い温度範囲:4 つの最高温度グレードをご用意しています —500℃、700℃、850℃、1,000℃— 炉は、特定のガラス組成とアニーリングプロファイルに適合するように構成できます。この柔軟性により、低温特殊ガラスから高温石英やホウケイ酸塩材料に至るまで、さまざまな種類の光学ガラスにわたって最適なパフォーマンスが保証されます。

インテリジェント PID プロセス制御:統合されたPIDインテリジェントプログラム温度コントローラータッチスクリーンインターフェースを採用し、直感的な操作が可能です。ユーザーは、正確な昇温速度、浸漬温度、冷却曲線を使用して、マルチセグメントの焼鈍プロファイルを定義できます。内蔵されているRS-485通信インターフェースリモート監視、データロギング、施設全体のプロセス制御システムとの統合が可能になります。

スケーラブルなチャンバー設計:有効音量範囲は0.1m3～3m3、炉は複数の標準サイズとカスタム サイズで利用できます。チャンバーは、空気流の均一性を維持しながらバッチのスループットを最大化するためのオプションの棚構成を備え、簡単に搬入出できるように設計されています。

堅牢な構造:高品位の電熱合金ワイヤー発熱体と高級絶縁材を組み合わせることで、持続的な高温での信頼性の高い長期動作が保証されます。炉シェルは外部表面温度が低く設計されており、オペレータの安全性とエネルギー効率が向上します。

主な用途

この焼鈍炉は、光学ガラス製品の精密熱処理、 含む：

• 光学レンズおよびプリズム - 研削および研磨後の応力除去焼鈍
• 精密ガラス基板 - フラットパネルディスプレイおよび半導体アプリケーションの熱安定化
• レーザーガラスコンポーネント - ドープ光利得媒体の制御された冷却
• 実験用ガラス器具 — 科学用ガラス装置の熱応力除去
• 特殊な光学フィルターとウィンドウ — 寸法安定性と屈折率均一性のためのアニーリング
• 研究開発 — 新しいガラスアニーリングプロトコルを開発するための柔軟なプラットフォーム

当社の焼鈍炉を選ぶ理由

私たちが提供するのは完全なターンキーソリューションお客様の特定の光学ガラス加工要件に合わせてカスタマイズします。すべての炉は、ターゲットのガラスの種類、バッチ サイズ、スループット目標、および設備の制約に基づいて構成されます。当社の包括的なサポートには、設置、試運転、オペレータートレーニング、継続的な技術コンサルティングが含まれます。

当社のエンジニアリングへの取り組みは、次の 3 つの重要な原則に重点を置いています。熱均一性ストレスのない光学品質を実現し、インテリジェントなオートメーションプロセスの再現性とデータのトレーサビリティのため、カスタム構成可能性制作ワークフローに正確に適合します。

詳細な技術仕様、カスタムチャンバー構成、およびカスタマイズされた見積もりについては、当社のエンジニアリングチームにお問い合わせください。当社では、お客様の特定の用途に最適な光学ガラスアニール ソリューションを設計する準備ができています。